159,00 €
+ 6,49 € Αποστολή

Chemical Vapor Deposition

  • Μάρκα: Unbranded
Πωλήθηκε από:

Chemical Vapor Deposition

  • Μάρκα: Unbranded

159,00 €

Σε απόθεμα
+ 6,49 € Αποστολή

Πολιτική επιστροφών 14 ημερών

Πωλήθηκε από:

159,00 €

Σε απόθεμα
+ 6,49 € Αποστολή

Πολιτική επιστροφών 14 ημερών

Μέθοδοι πληρωμής:

Περιγραφή

Chemical Vapor Deposition

1. Introduction. - 2. Thin Film Phenomena. - 3. Manufacturability. - 4. Chemical Equilibrium and Kinetics. - 5. Reactor Design for Thermal CVD. - 6. Fundamentals of Plasma Chemistry. - 7. Processing Plasmas and Reactors. - 8. CVD of Conductors. - 9. CVD of Dielectrics. - 10. CVD of Semiconductors. - 11. Emerging CVD Techniques. - AppendixVacuum Techniques for CVD. - A. 1 Fundamentals of Vaccum System Design. - A. 2 Typical Hardware Configurations. Language: English
  • Μάρκα: Unbranded
  • Κατηγορία: Εκπαίδευση
  • Művész: Srinivasan Sivaram
  • Nyelv: English
  • Kiadó / Kiadó: Springer
  • Formátum: Paperback
  • Oldalak száma: 292
  • Megjelenés dátuma: 2013/06/22
  • Fruugo ID: 450901291-950612076
  • ISBN: 9781475747539

Παράδοση & Επιστροφές

Αποστέλλεται σε 4 μέρες

  • STANDARD: 6,49 € - Παράδοση μεταξύ Δευ 26 Ιανουαρίου 2026–Πέμ 29 Ιανουαρίου 2026

Αποστέλλεται από Ηνωμένο Βασίλειο.

Κάνουμε ό,τι καλύτερο μπορούμε για να εξασφαλίσουμε ότι τα προϊόντα που παραγγέλνετε αποστέλλονται σε εσάς πλήρως και σύμφωνα με τις προδιαγραφές σας. Παρ' όλα αυτά, αν παραλάβετε μία ελλιπή παραγγελία ή προϊόντα διαφορετικά από αυτά που παραγγείλατε ή αν υπάρχει κάποιος άλλος λόγος που δεν είστε ικανοποιημένοι με την παραγγελία, μπορείτε να την επιστρέψετε ολόκληρη ή κάποια προϊόντα από αυτή και να λάβετε πλήρη επιστροφή χρημάτων για τα προϊόντα. Προβολή πλήρους πολιτικής επιστροφών